美研制出一种新光敏材料 [复制链接]

    【法新社华盛顿二月十七日英文电】美国全国科学基金会今天在这里宣布，美国研究人员研制成一种新的光敏材料，这种材料将大大增加计算机的存储能力。设在美国加利福尼亚州圣何塞市的国际商用机器公司实验室取得的这一成果，被认为是朝着生产具有二十五万（二五六Ｋ）位到五十万（五一二Ｋ）位存储容量的计算机迈出的一大步，生产这种计算机是有利可图的。
    美国科学界人士最近说，三家日本公司——日立、日本电气股份有限公司和日本电信电话公社在实验室也已取得类似成果。美国全国科学基金会在宣布上述成果时说，国际商用机器公司研制的这种新光敏材料，将代替目前使用的薄薄的聚合物胶片，这种胶片是用于在硅片上印刷电路的。由于进入了紫外线领域而不是停留在可见光谱领域，印刷电路的清晰度和密度都可以大大提高，从而使存储能力成几何倍数增加。